第60巻 第11号 目次   特集半導体エレクトロニクス  一般論文

特集 半導体エレクトロニクス (Vol.60 No.11)

巻 頭 言 (Vol.60 No.11)

半導体エレクトロニクス特集号の発刊によせて

  藤田静雄

967

論  文 (Vol.60 No.11)

Tersoffポテンシャルによるシリコンの局所格子不安定性解析

  屋代如月・藤原正大

968

水溶液プロセスによる酸化亜鉛ナノロッドの作製とバイオセンサへの応用

  尾形健一・土橋秀章・小池一歩・佐々誠彦・井上正崇・矢野満明

976

酸化亜鉛単結晶基板の極性面の違いによる表面処理方法とエピタキシャル成長過程の相違

  中村 立・藤村紀文

983

単結晶酸化亜鉛薄膜に対する8MeVプロトンの照射効果

  小池一歩・天野武志・青木隆裕・藤本龍吾・佐々誠彦・矢野満明・權田俊一・石神龍哉・久米 恭

988

超音波噴霧ミストCVD法によるリチウム系酸化物の成膜

  井川拓人・金子健太郎・藤田静雄

994

熱サイクルアニールを適用したSOS(Si-on-Sapphire)基板上GaAsエピタキシャル結晶成長層の品質改善

  門岩 薫・佐々木肇・寺井慶和・藤原康文

998

希土類窒化物半導体GdN薄膜の強磁性相転移とスピン秩序誘起のバンドギャップ減少

  吉富大明・來山真也・喜多 隆・福岡洋平・藤澤真士・張 衛民・大久保晋・太田 仁・櫻井敬博

1004


一 般 論 文 (Vol.60 No.11)

論  文 (Vol.60 No.11)

冷間鍛造金型の破損解析におけるミクロフラクトグラフィの役割

  江原隆一郎・武田圭祐・岩本将英・藤本英明・小倉 篤・濱家信一

1009

時効硬化Al合金の疲労特性に及ぼす時効組織および湿度の影響

  仮屋孝二・皮籠石紀雄・古本真一朗・中村祐三・近藤英二

1015

イオン交換水中における高強度圧延共析鋼の腐食疲労特性

  中谷正憲・有岡真平・川島拓也・ア原雅之・米津明生・箕島弘二

1023

経路独立Ê積分による応力拡大係数の有限要素解析

  矢富盟祥・上田拓哉・木慎太郎・阿部孝弘

1031

ホットプレス法で作製した窒化ケイ素セラミックスの強度とフラクトグラフィに及ぼす焼結助剤の影響

  森 要・内山 晃・庄司善貴・奥村英明

1037

断面修復後の防食効果に対する定量的モニタリング手法の開発

  竹内 傑・宮里心一・横関康祐・親本俊憲

1043

講  座 (Vol.60 No.11)

表面保護工を中心としたコンクリート構造物のアップグレード技術の現状と将来展望 1.コンクリート構造物のアップグレード技術総論

  山本貴士・宮川豊章

1049

国内外トピックス (Vol.60 No.11)

第5回超高サイクル疲労国際会議VHCF-5に出席して

  中村裕紀

1056

書  評 (Vol.60 No.11)

電子部品用エポキシ樹脂の最新技術U

  川崎真一

1

塑性の物理 -素過程から理解する塑性力学-

  下川智嗣

1